一种磁控溅射反应设备换样片装置[CN201910531719.0] - 浙江工业大学

专利申请

2019-06-19
公布公告

2023-12-29
授权日期

2023-12-29
终止

2033-12-26

一种磁控溅射反应设备换样片装置

* 专利信息仅供参考，不具有法律效力。有效专利

注册号： CN201910531719.0 申请日期： 2019-06-19 专利主类别： C23C14/35 {{ classMap["C23C14/35"] }}

申请人名称：浙江工业大学

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申请人地址：浙江省杭州市下城区潮王路18号

专利分类项目

C23C14/35 : 利用磁场的，例如磁控溅射

专利注册信息

初审公告期号	2019-06-19	初审公告日期	2023-12-29
注册公告期号	2023-12-29	注册公告日期	2023-12-29
专用权期限	2023-12-29 - 2033-12-26	专利类型	发明授权
代理组织机构	浙江千克知识产权代理有限公司查看该机构代理的所有专利

专利介绍

本发明公开了一种磁控溅射反应设备换样片装置，包括取样长杆，所述装置还包括圆筒、样片基座及设于取样长杆前部的长杆端部，所述长杆端部包括长杆端头、电磁铁、伸缩机构及微动开关，所述电磁铁、伸缩机构及微动开关设于圆筒内，所述电磁铁设于长杆端头的后方，所述电磁铁后方装设有伸缩机构，所述伸缩机构的尾端伸缩接触微动开关，所述样片基座包括设有凹陷口的尾端，所述长杆端头在尾端的凹陷口进出。本发明运用磁铁吸力实现取样，并使用弹簧和微动开关实现长杆自动脱出，在缩短搬运的时间，且要避免样片在搬运过程中受到损伤，以提高生产效率和成品率，并有利于提高整台设备的密封性，保证了工艺环境的洁净度。

法律进度