一种高强度强立方织构层状复合基带及其制备方法[CN201811612193.0] - 河南城建学院

专利申请

2018-12-27
公布公告

2020-09-22
授权日期

2020-09-22
终止

2030-09-20

一种高强度强立方织构层状复合基带及其制备方法

* 专利信息仅供参考，不具有法律效力。有效专利

注册号： CN201811612193.0 申请日期： 2018-12-27 专利主类别： C23C14/35 {{ classMap["C23C14/35"] }}

申请人名称：河南城建学院

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申请人地址：河南省平顶山市新城区

专利分类项目

C23C14/35 : 利用磁场的，例如磁控溅射

C23C14/16 : 在金属基体或在硼或硅基体上

C22C19/03 : 镍基合金

C22F1/10 : 镍或钴或它们为基的合金

C22C30/00 : 每一种成分的重量都小于50的合金

C22C9/06 : 镍或钴作次主要成分的

C21D9/52 : 用于线材；带材

专利注册信息

初审公告期号	2018-12-27	初审公告日期	2020-09-22
注册公告期号	2020-09-22	注册公告日期	2020-09-22
专用权期限	2020-09-22 - 2030-09-20	专利类型	发明授权
代理组织机构	北京卓岚智财知识产权代理事务所查看该机构代理的所有专利

专利介绍

一种高强度强立方织构层状复合基带及其制备方法，以Ni‑12at.%W合金为基底材料，其强度较高，然后沉积一层Ti‑V‑Cr‑Zr合金薄膜和一层Cu‑35at.%Ni‑3at.%W合金薄膜，其中Ti‑V‑Cr‑Zr合金薄膜可以有效阻碍外层薄膜和基底之间的扩散，并能促进外层薄膜中形成强立方织构，在后续热处理过程中，通过高温快速热处理可以在Cu‑35at.%Ni‑3at.%W合金薄膜中获得强立方织构，并且薄膜的晶粒尺寸均匀细小，基底强度高，为外延生长过渡层和超导层提供了条件。

法律进度