一种多孔二氧化钛薄膜的制备方法[CN201310677816.3] - 济南大学

专利申请

2013-12-13
公布公告

2014-03-12
授权日期

2016-02-03
终止

2024-03-09

一种多孔二氧化钛薄膜的制备方法

* 专利信息仅供参考，不具有法律效力。有效专利

注册号： CN201310677816.3 申请日期： 2013-12-13 专利主类别： C23C14/35 {{ classMap["C23C14/35"] }}

申请人名称：济南大学

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申请人地址：山东省济南市市中区南辛庄西路336号

专利分类项目

C23C14/35 : 利用磁场的，例如磁控溅射

C23C14/08 : 氧化物

C23C14/18 : 在其他无机物基体上

C23C14/02 : 待镀材料的预处理

C23F4/00 : 不包含在C23F 1/00或C23F 3/00组中的表面除去金属材料的工艺

专利注册信息

初审公告期号	2013-12-13	初审公告日期	2014-03-12
注册公告期号	2016-02-03	注册公告日期	2016-02-03
专用权期限	2014-03-12 - 2024-03-09	专利类型	发明公开
代理组织机构	济南泉城专利商标事务所查看该机构代理的所有专利

专利介绍

本发明涉及一种多孔二氧化钛薄膜的制备方法，包括如下步骤：以空心玻璃微珠作为基体，以Cu-Zn或Cu-Mn合金作为靶材，磁控溅射设备沉积Cu-Zn或Cu-Mn合金薄膜；采用酸性或碱性溶液进行脱合金化处理，后进行去离子水清洗至中性，再真空干燥；干燥后包裹多孔铜的玻璃微珠，磁控溅射设备表面沉积二氧化钛，制备出多孔二氧化钛。本发明制备的多孔二氧化钛薄膜增大二氧化钛的表面积，在紫外光照射下有更好的催化性能，可以在废水处理、空气净化及光催化领域有更好的应用前景。

法律进度