G03F7/20 : 曝光及其设备
2020-09-04 授权 ...
2019-01-15 实质审查的生效 IPC(主分类): G03F 7/20 专利申请号: 201810902950.1 申请日: 2018.0 ...
2018-11-30 公开 ...
实现液滴自驱动的梯度润湿表面的制备方法及其设备
一种用于毛细管放电EUV光源的负载系统
极紫外光光刻光源收集镜片集成用的基座
毛细管放电Z箍缩极紫外光光刻光源的收集系统
一种调控圆二色性的双层纳米结构及其制备方法
一种光刻机小工件卡具
一种可调式芯片卡具的使用方法
一种晒版成品防护装置
一种免驱动低光衰自动调节光束器
一种标牌曝光机
一种高精度PCB曝光机
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