• 专利申请
    2016-05-26
  • 公布公告
    2018-04-27
  • 授权日期
    2018-04-27
  • 终止
    2028-04-24
一种在钛合金表面制备陶瓷膜/釉膜复合涂层的方法
一种在钛合金表面制备陶瓷膜/釉膜复合涂层的方法
* 专利信息仅供参考,不具有法律效力。 有效专利
CN201610364730.9 2016-05-26 C25D11/26 {{ classMap["C25D11/26"] }}
浙江工业大学 查看申请人名下所有专利
浙江省杭州市下城区朝晖六区潮王路18号
专利分类项目
专利注册信息
初审公告期号 2016-05-26 初审公告日期 2018-04-27
注册公告期号 2018-04-27 注册公告日期 2018-04-27
专用权期限 2018-04-27 - 2028-04-24 专利类型 发明授权
代理组织机构 杭州斯可睿专利事务所有限公司 查看该机构代理的所有专利
专利介绍
本发明涉及一种在钛合金表面制备陶瓷膜/釉膜复合涂层的方法,首先在钛合金上利用微弧氧化技术在基体表面制备陶瓷涂层,然后再于陶瓷表面上釉封孔并烧结制备复合涂层。本发明利用微弧氧化(MAO)技术和表面上釉技术想结合制备陶瓷膜/釉膜复合涂层以提高基体表面硬度、耐磨性和高温的热稳定性能,而且涂层的膜基结合力好;由于陶瓷及釉层具有高硬度及高的致密度,从而提高了钛合金的耐磨性和耐腐蚀性能。该方法绿色环保,设备要求低,操作简单,成本低。
法律进度
  • 2018-04-27 授权 ...

  • 2016-11-09 实质审查的生效 IPC(主分类): C25D 11/26 专利申请号: 201610364730.9 申请日: 2016. ...

  • 2016-10-12 公开 ...

同类专利
  • 一种钛合金表面低太阳吸收率高发射率涂层的制备方法

  • 一种TC4钛合金表面原位生长黄色陶瓷膜层的方法

  • 一种钛合金TC4表面低太阳吸收率高发射率涂层的制备方法

  • 一种钛合金表面高太阳能吸收率高发射率黑色消光膜层的制备方法

  • 一种钛合金TA2表面高太阳吸收率低发射率膜层的制备方法

  • 利用等离子体电解氧化法在钛合金表面制备铁氧化物陶瓷膜层类芬顿催化剂的方法和应用

  • 一种选区激光熔化成型钛合金的表面阳极氧化方法

  • 一种在钛合金表面制备硫掺杂异相芬顿催化剂的方法及应用

  • 一种制备介孔三氧化钨薄膜的电化学方法

  • 一种制备三氧化钨纳米片的电化学方法

  • 一种阳极氧化法制备介孔纳米片钨化碳薄膜的方法

  • 一种氮化钛铌纳米管阵列的制备方法

咨询该专利

您还可以
推荐专利
{{ v.name }}
取 消 确 定