一种纳米多层结构WSx/DLC润滑膜及制备方法[CN201710423541.9] - 浙江工业大学

专利申请

2017-06-07
公布公告

2019-12-24
授权日期

2019-12-24
终止

2029-12-21

一种纳米多层结构WSx/DLC润滑膜及制备方法

* 专利信息仅供参考，不具有法律效力。有效专利

注册号： CN201710423541.9 申请日期： 2017-06-07 专利主类别： C23C14/06 {{ classMap["C23C14/06"] }}

申请人名称：浙江工业大学

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申请人地址：浙江省杭州市下城区潮王路18号

专利分类项目

C23C14/06 : 以镀层材料为特征的

C23C14/35 : 利用磁场的，例如磁控溅射

B82Y40/00 : 纳米结构的制造或处理

专利注册信息

初审公告期号	2017-06-07	初审公告日期	2019-12-24
注册公告期号	2019-12-24	注册公告日期	2019-12-24
专用权期限	2019-12-24 - 2029-12-21	专利类型	发明授权
代理组织机构	杭州天正专利事务所有限公司查看该机构代理的所有专利

专利介绍

本发明公开了一种纳米多层结构WSx/DLC润滑膜及制备方法，制备方法主要包括：(1)对基体进行前处理，使其表面清洁、光滑；(2)在多靶磁控溅射沉积系统中安装WS2靶、石墨靶和前处理后的基体，并将沉积室气压抽至1.5×10‑3Pa以下，调整靶基距和基体直流负偏压，通入高纯氩气并获得稳定气压；(3)加热基体到一定温度，然后以WS2靶和石墨靶为溅射靶材，在基体表面交替沉积WSx膜和DLC膜，通过沉积时间控制多层膜的调制周期、DLC膜厚和薄膜厚度等参数，从而获得特定结构特征的WSx/DLC纳米多层膜。本发明方法工艺简单、经济性好，制得的纳米多层膜硬度高(>9.5GPa)、结合力好(>36N)、内应力小(<370MPa)，在真空及潮湿大气环境中的耐磨性能优异(大气、真空中的摩擦因数低于0.17和0.1，磨损率<3×10‑15m3/Nm量级)，摩擦学性能的环境敏感性显著降低，具有较好的应用前景。

法律进度