• 专利申请
    2020-12-21
  • 公布公告
    2021-03-23
  • 授权日期
    2021-03-23
  • 终止
    2031-03-21
基于空间相干结构调控的光学成像系统及成像方法
基于空间相干结构调控的光学成像系统及成像方法
* 专利信息仅供参考,不具有法律效力。 有效专利
CN202011515882.7 2020-12-21 G01B11/24 {{ classMap["G01B11/24"] }}
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江苏省苏州市吴中区石湖西路188号
专利分类项目
专利注册信息
初审公告期号 2020-12-21 初审公告日期 2021-03-23
注册公告期号 2021-03-23 注册公告日期 2021-03-23
专用权期限 2021-03-23 - 2031-03-21 专利类型 发明授权
代理组织机构 苏州市中南伟业知识产权代理事务所 查看该机构代理的所有专利
专利介绍
本发明公开了一种基于空间相干结构调控的光学成像系统及成像方法,包括以下步骤:构建4f成像系统;通过第一光探测器探测4f成像系统中频谱域障碍物的形状;根据4f成像系统中频谱域障碍物的形状,设计入射光束的空间相干结构,使得入射光束所有模式都能通过障碍物的开口;将待测物体置于光路中,通过第二光探测器探测待测物体的光学成像信息。本发明在4f光学成像系统的频率面被部分遮挡的情况下,能够实现成像无散斑,并且极大提高系统光的利用率,同时提高了成像的信噪比。
法律进度
  • 2021-03-23 授权 ...

  • 2021-02-23 实质审查的生效 IPC(主分类): G01B 11/24 专利申请号: 202011515882.7 申请日: 2020.12 ...

  • 2021-02-02 公开 ...

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