• 专利申请
    2019-11-04
  • 公布公告
    2020-02-04
  • 授权日期
    2022-01-11
  • 终止
    2030-02-01
原位制备高能晶面择优金红石型二氧化钛薄膜的方法
原位制备高能晶面择优金红石型二氧化钛薄膜的方法
* 专利信息仅供参考,不具有法律效力。 有效专利
CN201911066665.1 2019-11-04 C23C18/12 {{ classMap["C23C18/12"] }}
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浙江省杭州市下城区朝晖六区潮王路18号
专利分类项目
专利注册信息
初审公告期号 2019-11-04 初审公告日期 2020-02-04
注册公告期号 2022-01-11 注册公告日期 2022-01-11
专用权期限 2020-02-04 - 2030-02-01 专利类型 发明公开
代理组织机构 杭州斯可睿专利事务所有限公司 查看该机构代理的所有专利
专利介绍
为解决骨-植入体在复杂应力环境下的界面可靠性问题,本发明提供了一种在钛/钛合金植入体上原位制备{001}高能晶面择优的金红石二氧化钛薄膜的方法。Ti-O薄膜与钛/钛合金基体有很好的结合力,因为高能晶面的曝露使其在体液中能有效诱导类骨磷灰石自发沉积(<24h),与周围骨组织可以实现分子水平的化学键合,实现连续的应力传递,可极大地提高植入体的生物活性,改善骨-植入体的界面有效性,本发明制备方法简单,原料成本低廉,所需设备简单,无需特殊装置。适用于不同大小、形状及结构的钛/钛合金基体,具有实用性。
法律进度
  • 2022-01-11 授权 ...

  • 2020-02-28 实质审查的生效 IPC(主分类): C23C 18/12 专利申请号: 201911066665.1 申请日: 2019.11 ...

  • 2020-02-04 公开 ...

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