一种激光沉积原位制备Mg2Si/Al复合材料的方法[CN201810534783.X] - 华东交通大学

专利申请

2018-05-29
公布公告

2018-09-21
授权日期

2020-06-02
终止

2028-09-18

一种激光沉积原位制备Mg2Si/Al复合材料的方法

* 专利信息仅供参考，不具有法律效力。有效专利

注册号： CN201810534783.X 申请日期： 2018-05-29 专利主类别： C23C24/10 {{ classMap["C23C24/10"] }}

申请人名称：华东交通大学

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申请人地址：江西省南昌市昌北双港东大街808号

专利分类项目

C23C24/10 : 覆层中临时形成液相的

专利注册信息

初审公告期号	2018-05-29	初审公告日期	2018-09-21
注册公告期号	2020-06-02	注册公告日期	2020-06-02
专用权期限	2018-09-21 - 2028-09-18	专利类型	发明公开
代理组织机构	苏州润桐嘉业知识产权代理有限公司查看该机构代理的所有专利

专利介绍

本发明属于复合材料制备领域，涉及一种制备Mg2Si增强Al基复合材料的方法。本发明涉及一种采用激光沉积原位制备Mg2Si/Al复合材料的全新的方法，属于复合材料制备技术领域。其特点在于脱离传统铸造方法，采用一种先进的、材料利用率高的激光沉积技术。取Al-50％Mg粉Al-9％Si粉按Al、Mg、Si的质量分数为7:2:1配比，放入球磨机中球磨，采用预置的方法将粉末制备成预置片，将预置片固定在6061铝合金基板上，用激光功率800W-1100W，扫描速度为200mm/min-400mm/min，光斑直径1.5mm进行单道多层激光沉积，得到Mg2Si/Al复合材料。本发明工艺简单，操作方便，晶粒尺寸小且力学性能好。

法律进度