一种利用激光熔覆增强Hastelloy N合金表面耐磨性的方法[CN201511004969.7] - 浙江工业大学

专利申请

2015-12-28
公布公告

2018-02-13
授权日期

2018-02-13
终止

2028-02-11

一种利用激光熔覆增强Hastelloy N合金表面耐磨性的方法

* 专利信息仅供参考，不具有法律效力。有效专利

注册号： CN201511004969.7 申请日期： 2015-12-28 专利主类别： C23C24/10 {{ classMap["C23C24/10"] }}

申请人名称：浙江工业大学

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申请人地址：浙江省杭州市下城区潮王路18号

专利分类项目

C23C24/10 : 覆层中临时形成液相的

专利注册信息

初审公告期号	2015-12-28	初审公告日期	2018-02-13
注册公告期号	2018-02-13	注册公告日期	2018-02-13
专用权期限	2018-02-13 - 2028-02-11	专利类型	发明授权
代理组织机构	杭州天正专利事务所有限公司查看该机构代理的所有专利

专利介绍

本发明公开了一种利用激光熔覆增强Hastelloy N合金表面耐磨性的方法，所述方法为：将Hastelloy N合金表面清洗预处理，将经过酸洗的碳化硅陶瓷粉烘干；将预处理后的碳化硅陶瓷粉均匀铺展于预处理后的Hastelloy N合金表面，并用激光辐照扫描至不低于2600℃进行激光熔覆，获得激光熔敷后的Hastelloy N合金，随后冷却至室温，获得表面耐磨性增强的Hastelloy N合金；本发明利用高温使碳化硅完全分解形成Si和C，其中Si作为一种催化剂，会促进Hastelloy N合金内Mo与C反应生成MoC，在Hastelloy N合金表面形成大量MoC、C和基体均匀分布的熔覆层，增强Hastelloy N合金表面耐磨性；所得熔覆层结构更加稳定，没有裂纹产生，耐磨性也得到极大的提高。

法律进度