激光熔覆用高熵合金粉末和高熵合金涂层的制备方法[CN201310169092.1] - 浙江工业大学; 杭州东通激光科技有限公司

专利申请

2013-05-06
公布公告

2015-11-18
授权日期

2015-11-18
终止

2025-11-15

激光熔覆用高熵合金粉末和高熵合金涂层的制备方法

* 专利信息仅供参考，不具有法律效力。有效专利

注册号： CN201310169092.1 申请日期： 2013-05-06 专利主类别： C23C24/10 {{ classMap["C23C24/10"] }}

申请人名称：浙江工业大学; 杭州东通激光科技有限公司

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申请人地址：浙江省杭州市潮王路18号

专利分类项目

C23C24/10 : 覆层中临时形成液相的

C22C30/00 : 每一种成分的重量都小于50的合金

专利注册信息

初审公告期号	2013-05-06	初审公告日期	2015-11-18
注册公告期号	2015-11-18	注册公告日期	2015-11-18
专用权期限	2015-11-18 - 2025-11-15	专利类型	发明授权
代理组织机构	杭州丰禾专利事务所有限公司查看该机构代理的所有专利

专利介绍

本发明公开了一种激光熔覆用高熵合金粉末，该高熵合金粉末的质量百分比为：10%～15%的Fe，14～17%的Cr，22%～25%的Ni，22%～24%的Co，22%～24%的Mn，0%～4%的Si，0%～4%的B。还公开了在上述方案的成份基础上添加了另一组元Al的方案，以及上述激光熔覆用高熵合金粉末制备高熵合金涂层的方法。本技术方案激光熔覆后容易获得良好的涂层涂覆质量，涂层的相结构保持高熵合金特有的固溶体结构，并且熔覆涂层中各主要金属元素的原子百分比符合名义上的高熵合金范畴，具有硬度高、耐高温、耐磨损、耐腐蚀等多种优异性能，工艺重复性和可操作性都大大提高，使得高熵合金在激光材料表面改性上得到推广应用。

法律进度