• 专利申请
    2020-07-31
  • 公布公告
    2020-11-20
  • 授权日期
    2022-04-08
  • 终止
    2030-11-18
一维光子晶体结构聚合物膜的制备方法
一维光子晶体结构聚合物膜的制备方法
* 专利信息仅供参考,不具有法律效力。 有效专利
CN202010757486.9 2020-07-31 C08F220/56 {{ classMap["C08F220/56"] }}
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辽宁省大连市经济技术开发区学府大街10号
专利分类项目
专利注册信息
初审公告期号 2020-07-31 初审公告日期 2020-11-20
注册公告期号 2022-04-08 注册公告日期 2022-04-08
专用权期限 2020-11-20 - 2030-11-18 专利类型 发明公开
代理组织机构 大连智高专利事务所 查看该机构代理的所有专利
专利介绍
本发明涉及一维光子晶体结构聚合物膜的制备方法,涉及光子晶体和分子印迹技术领域。本发明的技术方案主要包括:包括如下步骤:将模板分子、功能单体、丙烯酰胺、交联剂与甲醇混合,过夜搅拌12小时;加入光引发剂,氮气除氧后即得到前驱液;在洁净的玻璃片上滴加前驱液,用一维光子晶体模板覆盖于溶液上,将其置于紫外灯下照射,引发聚合,聚合后揭下即得一维光子晶体结构聚合物膜。本发明将光子晶体与分子印迹技术相结合,与传统单一的分子印迹制备检测方法相比,实现了可视化检测,在检测中可通过聚合物膜颜色的变化来判断该分子印迹膜结构的变化。
法律进度
  • 2022-04-08 授权 ...

  • 2020-12-08 实质审查的生效 IPC(主分类): C08F 220/56 专利申请号: 202010757486.9 申请日: 2020.0 ...

  • 2020-11-20 公开 ...

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