• 专利申请
    2018-12-03
  • 公布公告
    2019-12-10
  • 授权日期
    2019-12-10
  • 终止
    2024-07-02
小磁瓦微缺陷视觉检分装置
小磁瓦微缺陷视觉检分装置
* 专利信息仅供参考，不具有法律效力。 失效专利
CN201822008652.6 2018-12-03 G01N21/89 {{ classMap["G01N21/89"] }}
浙江理工大学 查看申请人名下所有专利
浙江省杭州市下沙高教园区2号大街5号
专利分类项目

G01N21/89 : 在移动的材料中，例如，纸张、织物中

专利注册信息
初审公告期号 2018-12-03 初审公告日期 2019-12-10
注册公告期号 2019-12-10 注册公告日期 2019-12-10
专用权期限 2019-12-10 - 2024-07-02 专利类型 实用新型
代理组织机构 杭州中成专利事务所有限公司 查看该机构代理的所有专利
专利介绍
本实用新型提供一种小磁瓦微缺陷视觉检分装置：包括圆盘、正面检测工位、上面检测工位、反面监测工位、电磁铁剔除装置和磁瓦收集装置，正面检测工位、上面检测工位、反面监测工位和磁瓦收集装置周向均匀设置在圆盘正上方，磁瓦剔除机构与磁瓦收集装置配合使用；本实用新型电机转速、相机位置和电磁铁位置都可调，可根据实际的工程需要方便调试；整个型材框架装置底部装有万向轮方便搬运；经过相应工位检测后能准确检测出小磁瓦的品质好坏，并且能准确地在剔除小磁瓦，根据检测出来的小磁瓦合格或缺陷种类控制舵机滑梯的倾斜角度，使小磁瓦进入相应的存储仓。
法律进度

  • 2024-07-02 未缴年费专利权终止 IPC(主分类): G01N 21/89 专利号: ZL 201822008652.6 申请日: 2018.1 ...

  • 2019-12-10 授权 ...

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