一种可调整光源的光化学加工平台及其加工方法[CN201810829046.2] - 浙江工业大学

专利申请

2018-07-25
公布公告

2023-09-29
授权日期

2023-09-29
终止

2033-09-26

一种可调整光源的光化学加工平台及其加工方法

* 专利信息仅供参考，不具有法律效力。有效专利

注册号： CN201810829046.2 申请日期： 2018-07-25 专利主类别： B24B29/02 {{ classMap["B24B29/02"] }}

申请人名称：浙江工业大学

查看申请人名下所有专利

申请人地址：浙江省杭州市下城区潮王路18号

专利分类项目

B24B29/02 : 适用于特殊工件的

B24B41/00 : 磨削机床或装置的部件，比如机架，床身，滑板，床头箱的

B24B41/02 : 机架；床身；滑板

B24B41/04 : 床头箱；工作主轴；其有关特征

B24B41/06 : 工件支架，如可调中心架

B24B51/00 : 用于磨削工件时一系列的单个步骤的自动控制装置

B24B57/02 : 流体的，喷射的，雾化的或液化的磨削剂，抛光剂，或研磨剂的送进

专利注册信息

初审公告期号	2018-07-25	初审公告日期	2023-09-29
注册公告期号	2023-09-29	注册公告日期	2023-09-29
专用权期限	2023-09-29 - 2033-09-26	专利类型	发明授权
代理组织机构	杭州天正专利事务所有限公司查看该机构代理的所有专利

专利介绍

一种可调整光源的光化学加工平台及其加工平台，包括：抛光装置，包括柔性抛光装置和夹持装置，柔性抛光装置安装在夹持装置的活动端，用于加工工件；抛光工作台，用于夹紧工件并浸泡工件；可调整光源装置，用于调整光源位置，使其对准抛光工作台上的工件并对工件进行照射；抛光液补加装置，设置于抛光工作台旁，并且其加液口位于抛光工作台的抛光池正上方，用于向抛光工作台中添加抛光液；以及控制柜，与抛光装置、抛光工作台、可调整光源装置以及抛光液补加装置电连接或信号连接。本发明的有益效果是：对工件照射位置、照射强度、照射角度适应性调整，提高光化学的效果，提高光化学加工的效率。

法律进度