一种基于不规则源材的表面梯度薄膜制备装置，包括真空腔室以及设置在真空腔室内的基质、用于遮蔽部分下方扩散上来的离散态源材的可移动遮板和蒸发源结构，所述基质位于所述可移动遮板的上方且与蒸发源结构上下正对布置，所述可移动遮板的中部设有通孔，所述可移动遮板的左右两端分别与链带连接，所述链带绕过滚轴与步进电机的电机轴连接，所述滚轴前后安装在真空腔室内；所述蒸发源结构位于所述可移动遮板的下方。本实用新型提供了一种基于不规则源材的表面梯度薄膜制备装置，能使覆层能够牢固地吸附在基质上，生成的薄膜更为均匀致密，并且能在单个工件上加工出完整的组合空间，能够快速制备出组分连续渐变的多元梯度薄膜。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利