一种可见光降解阴离子型染料的木质素基气凝胶及其制备方法[CN202011083775.1] - 武汉纺织大学

专利申请

2020-10-12
公布公告

2022-07-01
授权日期

2022-07-01
终止

2032-06-28

一种可见光降解阴离子型染料的木质素基气凝胶及其制备方法

* 专利信息仅供参考，不具有法律效力。有效专利

注册号： CN202011083775.1 申请日期： 2020-10-12 专利主类别： B01J31/06 {{ classMap["B01J31/06"] }}

申请人名称：武汉纺织大学

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申请人地址：湖北省武汉市洪山区纺织路1号

专利分类项目

B01J31/06 : 含有聚合物

B01J31/26 : 还包括未列入B01J 31/02至B01J 31/24组的无机金属化合物

C02F1/30 : 光照法

C02F1/28 : 吸附法

C02F101/30 : 有机化合物

专利注册信息

初审公告期号	2020-10-12	初审公告日期	2022-07-01
注册公告期号	2022-07-01	注册公告日期	2022-07-01
专用权期限	2022-07-01 - 2032-06-28	专利类型	发明授权
代理组织机构	武汉帅丞知识产权代理有限公司查看该机构代理的所有专利

专利介绍

本发明涉及一种可见光降解阴离子型染料的木质素基气凝胶及其制备方法，该木质素基气凝胶是以碱木质素为原料，对其进行阳离子化改性，使其表面接枝阳离子基团，然后将其制备为气凝胶材料；制备了纳米二氧化钛溶胶，将气凝胶置于纳米二氧化钛溶胶和固化剂聚乙二醇的混合溶液中进行负载纳米二氧化钛，最后干燥和煅烧制得。在光照条件下，本发明制备的木质素基气凝胶对活性染料活性橙5、活性红2和直接染料直接红23进行催化降解，经过光照30分钟后，活性染料活性橙5、活性红2和直接染料直接红23的浓度从50mg/L分别下降为6.3mg/L、9.1mg/L和8.3mg/L。

法律进度