• 专利申请
    2020-05-27
  • 公布公告
    2020-07-31
  • 授权日期
    2022-03-25
  • 终止
    2030-07-29
一种两性离子修饰硅-钛杂化纳滤复合膜及其制备方法
一种两性离子修饰硅-钛杂化纳滤复合膜及其制备方法
* 专利信息仅供参考，不具有法律效力。 有效专利
CN202010462764.8 2020-05-27 B01D69/12 {{ classMap["B01D69/12"] }}
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山东省临沂市双岭路中段
专利分类项目

B01D69/12 : 复合膜；超薄膜

B01D69/10 : 支撑的膜；膜的支撑物

B01D69/02 : 以性能为特征

B01D67/00 : 专门适用于分离工艺或设备的半透膜的制备方法

专利注册信息
初审公告期号 2020-05-27 初审公告日期 2020-07-31
注册公告期号 2022-03-25 注册公告日期 2022-03-25
专用权期限 2020-07-31 - 2030-07-29 专利类型 发明公开
代理组织机构 济南尚本知识产权代理事务所 查看该机构代理的所有专利
专利介绍
一种两性离子修饰硅-钛杂化纳滤复合膜及其制备方法，包括多孔聚醚砜高分子结构构成的支撑层，所述的支撑层上设置包含聚酰亚胺和两性离子修饰的二氧化硅-二氧化钛凝胶的分离层。本发明采用原位溶胶-凝胶法，将无机二氧化硅-二氧化钛采用溶胶高分子的形式引入有机高分子中，通过调控成膜条件，由避免无机组分出现团聚进而显著优化有机-无机杂化界面，显著强化膜性能，从而改善了现有技术中由多孔聚醚砜高分子结构与聚酰亚胺组成的纳滤膜存在的通量低的问题。此外，本发明将无机二氧化硅-二氧化钛通过化学接枝法接枝上两性离子，在维持截盐率基本不变的情况下，通量显著提升，同时优化膜材料的抗污染性能。
法律进度

  • 2022-03-25 授权 ...

  • 2020-08-25 实质审查的生效 IPC(主分类): B01D 69/12 专利申请号: 202010462764.8 申请日: 2020.05 ...

  • 2020-07-31 公开 ...

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