• 专利申请
    2014-10-28
  • 公布公告
    2015-03-04
  • 授权日期
    2015-03-04
  • 终止
    2025-03-01
用于颗粒力链观测的磨粒约束装置
用于颗粒力链观测的磨粒约束装置
* 专利信息仅供参考,不具有法律效力。 有效专利
CN201420630569.1 2014-10-28 G01N3/08 {{ classMap["G01N3/08"] }}
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浙江省杭州市下城区潮王路18号
专利分类项目
专利注册信息
初审公告期号 2014-10-28 初审公告日期 2015-03-04
注册公告期号 2015-03-04 注册公告日期 2015-03-04
专用权期限 2015-03-04 - 2025-03-01 专利类型 实用新型
代理组织机构 杭州天正专利事务所有限公司 查看该机构代理的所有专利
专利介绍
用于颗粒力链观测的磨粒约束装置,包括上透明层、下透明层、夹在上下透明层之间的中层磨粒约束模块、多个用于测定磨粒受力状态的应力传感器、控制器,中层磨粒约束模块包括用于容纳光弹颗粒的腔体、挡板、施力机构,腔体侧面带有缺口;挡板安装在腔体缺口处;腔体底部装有施力机构,施力机构的挤压部贯穿腔体的底板后与光弹颗粒接触;上透明板、下透明板、施力机构的挤压部、腔体以及挡板共同围成容纳光弹颗粒的中层封闭容纳腔;中层磨粒约束模块配置多个应力传感器,应力传感器与控制器的信号输入端相连、施力机构与控制器的信号输出端相连。本实用新型的有益效果在于:适用于针对光弹颗粒的力链采集,并可根据加工对象的不同进行形状的调整。
法律进度
  • 2015-03-04 授权 ...

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